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游離二氧化硅前處理儀

游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定 第4部分:游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟,自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過(guò)程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過(guò)濾、自動(dòng)清洗等功能,整個(gè)過(guò)程無(wú)需人員值守,實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。
產(chǎn)品品牌: 霍爾德?電子
價(jià)格: 我要詢價(jià)
廠商性質(zhì): 生產(chǎn)廠家
產(chǎn)品時(shí)間: 2024-11-28

產(chǎn)品概述

游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定 第4部分:游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟,自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過(guò)程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過(guò)濾、自動(dòng)清洗等功能,整個(gè)過(guò)程無(wú)需人員值守,實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。


游離二氧化硅前處理儀


游離二氧化硅前處理儀主要技術(shù)參數(shù)

*2.1全自動(dòng)一體機(jī),自動(dòng)完成加焦磷酸、消解、降溫、過(guò)濾、清洗等實(shí)驗(yàn)步驟,滿足國(guó)標(biāo)要求,保證數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性。

*2.2儀器具有加水后復(fù)溫功能,過(guò)濾過(guò)程中,可對(duì)液體實(shí)時(shí)混勻,混勻速度可調(diào)。

*2.3配備≥12個(gè)樣本位,≥12個(gè)過(guò)濾位。特制玻璃樣品杯,保障樣品快速均勻加熱,特制過(guò)濾裝置,耐酸堿耐高溫,實(shí)現(xiàn)快速過(guò)濾。樣本可連續(xù)上機(jī),實(shí)現(xiàn)不停機(jī)做樣。

2.4運(yùn)行過(guò)程中無(wú)需轉(zhuǎn)移樣品,減少樣品在不同器皿之間轉(zhuǎn)移過(guò)程中的損失。

2.5儀器可以自動(dòng)添加焦磷酸至樣品中,無(wú)需手工添加。

2.6儀器具有自動(dòng)降溫功能,消解后樣品架離開(kāi)加熱位,完成快速降溫。

2.7自動(dòng)控溫加熱,10min內(nèi)液體升溫至245℃,15分鐘保持在245℃-250℃。

*2.8采用雙感溫控探頭,實(shí)時(shí)監(jiān)控液體溫度,控溫精度±0.1℃。

2.9儀器采用一體恒溫加熱模組,各加熱位溫度均勻一致。

2.10儀器采用耐酸堿高精度計(jì)量泵,加液精度<1%。

2.11特制攪拌棒,攪拌測(cè)溫一體設(shè)計(jì),攪拌速度可調(diào)節(jié),保證樣品攪拌均勻。

2.12具有磷酸制備焦磷酸功能,可自動(dòng)加磷酸,在線制備焦磷酸。

*2.13采用負(fù)壓過(guò)濾系統(tǒng),兩個(gè)樣品可同時(shí)過(guò)濾,滴液速度和負(fù)壓大小均可調(diào)節(jié),快速安全。


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